① 什麼是光學模具
光學模具是指注塑成型光學產品的腔形夾具。模具零件有很高的生產要求，有的需要鏡面拋光，一般光學精度Rt<0.5um,粗造度Ra<0.01um,光潔度達到3級。
零件加工是先用火花機做出形狀，再表面處理，如拋光等，我見過的最精密的鏡面拋光現在國內還不能做，只能是送到國外加工。光學模具對模具的精度要求也很高，前後模如果偏心的話，出來的鏡頭的光學效應就達不到要求。
光學模具拋光和塑膠模具拋光都是拋光，不過，光學模具拋光要求的表面粗糙度更高。對於光學鏡片來說，表面粗糙度要求很高，但是鏡片的曲面、度數來說，要求也不低。否則，鏡片的表面粗糙度上去了，但是，鏡片的曲面、度數誤差過大，那鏡片也將會是次品或者報廢品。
② 常見模具拋光的方法有哪些
在模具行業中，我們經常會遇到模具的表面需要修復的地方，這時候我們就要對這個地方進行表面拋光處理了，拋光的話也要分什麼情況，表面修復地方的程度而進行相應的處理，下面來介紹幾種拋光方法：
1、磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控制，工作條件好。採用合適的磨料，表面粗糙度可以達到Ra0.1μm。
2、機械拋光基本方法
在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表面拋光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應該稱為鏡面加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表面
平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標准。表面拋光一般只要求獲得光亮的表面即可。鏡面加工的標准分為四
級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體拋光等方法很難精確
控制零件的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質量又達不到要求，所以精密模具的鏡面加工還是以機械拋光為主。
2.1機械拋光基本程序
要想獲得高質量的拋光效果，最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決於前期加工後的表面狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：
（1）粗拋 經銑、電火花、磨等工藝後的表面可以選擇轉速在35 000—40 000
rpm的旋轉表面拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA #
400的輪子去除白色電火花層。然後是手工油石研磨，條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~
#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時間而選擇從#400開始。
（2）半精拋 半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~
#1500。實際上#1500砂紙只用適於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用於預硬鋼，因為這樣可能會導致預硬鋼件表面燒傷。
（3）精拋 精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~
6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研
磨膏進行拋光，順序為1μm（#14000）~
1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。 精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具加工車間中一個清潔的拋光室內即可進
行。若進行更加精密的拋光則必需一個絕對潔凈的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精密拋光表面。